高层次专家-----尾嶋正治教授学术报告通知(2018--9))


发布时间: 2018-05-30     浏览次数: 13

报告题目: Thin film growth and synchrotron radiation analysis for optoelectronics, magnetoelectronics and nano electronics devices

报告时间:  201861下午1430

报 告 人:  尾嶋正治教授(Prof. Masaharu Oshima

           日本东京大学(The University of Tokyo, Japan

报告地点:   河海大学江宁校区力学与材料学院(乐学楼)1231

主办单位:   河海大学金属材料与防护研究所

邀 请 人:  王媛教授、吴国松研究员

 

报告人简介:

        尾嶋正治(Masaharu Oshima)博士,东京大学名誉教授(Professor Emeritus),东京都市大学杰出教授(Distinguished Professor),日本应用物理学会会士(JSAP Fellow),日本化学会会士(CSJ Fellow)。1972年获东京大学学士学位,1974年获东京大学硕士学位,1984年获东京大学博士学位。1981-1982年在斯坦福大学担任客座科学家(Visiting Scientist)。1987年在NTT研究所担任同步辐射研究组组长(Group Leader)。1995年任东京大学工学部应用化学系教授(Professor)。曾任日本表面科学学会会长(President)、日本化学会第一副会长(First Deputy President)、日本同步辐射研究学会会长(President)、日本东北大学等多所知名科研机构客座教授(Visiting Professor)、东京大学同步辐射研究机构机构长(Director)和特任教授(Specially Appointed Professor)。主要研究领域为功能薄膜、同步辐射及新能源材料。迄今为止,已在SciencePhys. Rev. Lett.Nature CommunicationsAdvanced MaterialsAppl. Phys. Lett.等知名期刊上发表论文600余篇。